光电、光子与 MEMS¶
适合人群¶
希望从电磁与量子基础进入光电器件、集成光子和微机电系统的学习者
最终验收¶
完成一个有模式/器件仿真、工艺约束、版图和性能预算的光子或 MEMS 设计。
路线中的主线审计复核项
- Silicon Photonics Design, Fabrication and Data Analysis:课程按期开放,商业工具许可、地区注册、流片日期和付费条件会变化;只返回测量数据,不邮寄芯片,必须在每次开课前人工复核。 最近审计:2026-07-29。
阶段安排¶
物理与场¶
选课要求: 完成全部 4 门必修;其余 1 门仅在需要补缺时选学。
- Physics II: Electricity and Magnetism with an Experimental Focus — 必修; MIT; 主线; A
- Physics III: Vibrations and Waves — 必修; MIT; 主线; S
- Quantum Physics I — 可选补充; MIT; 替代; A
- Electromagnetic Fields and Waves — 必修; Cornell University; 主线; S
- Physics of Semiconductors and Nanostructures — 必修; Cornell University; 主线; A
阶段退出条件: 求解一个波导或谐振腔的模式,并用独立数值方法复核;前三个本征频率与解析或收敛基准偏差低于 2%,归一化场能量误差低于 1%。
器件与工艺¶
选课要求: 完成全部 2 门必修,并从 2 门选修候选中选择 1 门。
- Micro/Nano Processing Technology — 必修; MIT; 主线; S
- Design and Fabrication of Microelectromechanical Devices — 选修候选; MIT; 主线; A
- Quantum Optics for Photonics — 选修候选; Cornell University; 替代; A
- Semiconductor Optoelectronics — 必修; Cornell University; 主线; A
阶段退出条件: 设计一个光电、波导或 MEMS 器件并绑定可制造工艺,扫描至少 3 个关键尺寸;报告灵敏度、容差窗口和最坏角落性能,版图通过所采用的规则检查。
光子系统¶
选课要求: 完成全部 1 门必修,并从 2 门选修候选中选择 1 门。其余 1 门为可选补充,不计入本阶段选修数。
- Introduction to Photonics — 必修; IIT Madras / NPTEL; 主线; S
- Silicon Photonics Design, Fabrication and Data Analysis — 可选补充; University of British Columbia; 主线; A; 审计复核中
- Optics — 选修候选; MIT; 替代; S
- Photonic Materials and Devices — 选修候选; MIT; 补充; B
阶段退出条件: 完成片上或自由空间光链路预算,验证插入损耗、带宽、串扰和每比特能耗;对尺寸与材料偏差运行不少于 200 次蒙特卡洛试验并报告规格良率。
执行规则¶
- 按每个阶段的选课要求完成全部必修与指定数量的选修;若提供完整路径选项,只选择一条并按序完成其中全部课程;可选补充只用于填补明确缺口。
- 阶段内至少完成一个可复现产物,并把失败记录纳入复盘。
- 涉及市电、高压、射频辐射、激光、化学品或加工设备时,必须遵守本地法规并由合格人员监督。