微纳工艺与 MEMS¶
方向定位¶
沉积、光刻、刻蚀、工艺集成和微机电设计；无洁净室时只做工艺计划、仿真和案例分析。
建议先修方向¶
建议顺序¶
课程清单¶
| 课程 | 机构 | 角色 | 评级 | 实践资源 |
|---|---|---|---|---|
| Micro/Nano Processing Technology | MIT | 主线 | S | 完整 |
| Design and Fabrication of Microelectromechanical Devices | MIT | 主线 | A | 完整 |
| Micro and Nanofabrication (MEMS) | EPFL | 替代 | A | 部分 |
| Basic Overview of Semiconductor Device Processing and IC Fabrication | IIT Kanpur / NPTEL | 补充 | A | 部分 |
如何选课¶
- 第一次系统学习优先选择审计通过的主线课程；标为“审计复核中”的记录须先阅读限制，且同一阶段通常不需要并行完成多个替代课程。
- 评级衡量公开材料完整度和自学可执行性，不代表学校、教师或学术声望排序。
- 补充课程只用于填补某个主题、工具或实践缺口。
方向验收¶
- 掌握微纳工艺与 MEMS的核心概念、模型与分析方法
- 完成可复现、可检验的练习、实验或设计成果